В России разрабатываются фотолитографы с нормами 350-90 нм. Об этом пишет «Телеспутник».
Фотолитографическое оборудование с нормами 350 нм разрабатывает Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) вместе с белорусским заводом «Планар», а российский производитель микроэлектроники «Микрон» (входит в ГК «Элемент») выступает в этом соглашении в качестве технологического партнера.
«Для независимости отечественной полупроводниковой отрасли важно сначала разработать, выпустить и освоить фотолитограф на 350, а потом на 180-90 нм (нанометров, - ред.)», - рассказал руководитель специальных проектов АО «Микрон» Юрий Чеботарев.
По его словам, при разработке фотолитографа «Микрон» будет участвовать в совместных экспериментальных работах с ЗНТЦ с постановкой технологического процесса.
«Проект ЗНТЦ и "Планара" нужно послать вдогонку до серийного выпуска, состыковать с нашими технологическими возможностями, с нашим оборудованием. Работы много, но база давно в наличии», - пояснил Чеботарев.
Суть соглашения, которое заключили на форуме «Микроэлектроника 2024», состоит в совместном освоении технологий и производстве фотолитографического оборудования с нормами 350-90 нм на территории Российской Федерации.
Фотолитограф - важнейшее оборудование в техпроцессе, созданное для формирования структуры микросхемы на кремниевой пластине, покрытой слоем фоторезиста - полимерного светочувствительного материала. В России сейчас самыми современными технологиями являются 180 и 90 нм.
Фото: Freepik